Nanoscribe 公司擁有世界領(lǐng)_先的雙光子無掩模光刻 3D 打印技術(shù)，其 Photonic Professional GT 系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出傳統(tǒng)高精 3D 打印機(jī) 100 倍的三維微納器件，而全新系列 Quantum X 平臺系列更是世_界上第_Y個基于雙光子灰度光刻(2GL?)的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術(shù)優(yōu)勢，在微納制造技術(shù)方面處于領(lǐng)_先地位。
產(chǎn)品與服務(wù)：
納糯三維科技在中國市場主要推廣 Nanoscribe 的一系列 3D 打印設(shè)備，如 Quantum X align 系統(tǒng)等，這些設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)等領(lǐng)域。此外，公司還承擔(dān)著系統(tǒng)安裝、維護(hù)及專業(yè)培訓(xùn)等本土化服務(wù)，為中國客戶提供了全面的解決方案。
【產(chǎn)品評價】Quantum X align 系統(tǒng)代表了新一代對準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，并具備自動對準(zhǔn)能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.
